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ITO上电沉积Pd的成核机理及电催化性质研究

信息来源: 暂无 发布日期: 2014-09-09 浏览次数:

ITO上电沉积Pd的成核机理及电催化性质


汤儆 田晓春 刘跃强 林建航.

ITO上电沉积Pd的成核机理及电催化性质研究[J]  高等学校化学学报, 2012,V33(05): 1011-1016


摘要: 采用循环伏安技术和计时电流技术, 研究了ITO上电沉积Pd的过程,发现Pd在ITO表面的电沉积是过电位成核且为不可逆的扩散控制过程;根据Cottrell方程计算得到[PdCl4]2-的扩散系数为2.19X10-5cm2/s; 根据Scharifker的理论模型, 归一化处理电流鄄时间曲线, 与理论成核曲线对照, 判断 Pd 的成核机理. 通过场发射扫描电子显微镜( FESEM) 对Pd的形貌进行分析, 讨论了沉积电位和沉积时间对Pd纳米粒子形貌的影响. 用 X 射线粉末衍射( XRD)对Pd纳米粒子进行结构分析, 并在 0.5 mol/L H2SO4溶液中研究了其电化学性质及在碱性条件下乙醇分子的电催化性质.


文章链接:http://www.cjcu.jlu.edu.cn/CN/abstract/abstract24365.shtml