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ITO基底上ZnO薄膜的制备以及刻蚀图形的扫描电化学显微镜表征

汤儆, 郑晶晶, 徐炜, 田晓春, 林建航.

ITO基底上ZnO薄膜的制备以及刻蚀图形的扫描电化学显微镜表征[J]. 物理化学学报, 2011,27(11): 2613-2617.

摘要:在氧化铟锡(ITO)导电玻璃的衬底上, 利用直接电沉积方法制备了ZnO纳米线或ZnO薄膜. 然后利用存储有HCl刻蚀剂的琼脂糖微图案印章对其进行了化学刻蚀以形成不同的图形. 利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和扫描电化学显微镜(SECM)分别对ITO衬底上的ZnO薄膜的结构、形貌和电化学性质进行表征.

文章链接：http://www.whxb.pku.edu.cn/CN/abstract/abstract27744.shtml